亿融配资
9月4日亿融配资， CSEAC2025于无锡正式开幕。
拓荆科技（展位号：A1-09） 的展台内人流如织，以精彩的技术报告分享和多项核心技术解决方案，吸引大量观众驻足交流。
在今日上午的技术分享中，拓荆科技PECVD 产品高级总监于棚以 《PECVD产品在先进存储领域的应用》 为题，系统介绍了PECVD薄膜在先进技术节点中的关键作用，并针对先进存储领域所面临的技术挑战，提出了多项创新解决方案。
下午的报告由产品研发部部长薛国标以 《ALD TiN Applications in Advanced Logic, Memory, and Packaging》为主题，全面介绍了拓荆在原子层沉积中具有挑战性的氮化钛薄膜技术的进展。
报告指出亿融配资，面向不同的应用领域，拓荆提供的氮化钛原子层沉积设备和工艺解决方案及其业界领先的性能表现，满足了多元化的客户需求。
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